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M4 TRONADO高性能微区X射线荧光光谱仪
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所属分类:X-ray镀层测厚仪
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M4 TRONADO高性能微区X射线荧光光谱仪分析技术是对不均匀样品、不规则样品、甚至小件样品和包裹物进行高灵敏度的、非破坏性的元素分析的首选方法。采用多导毛细管聚焦镜将激发光聚焦到非常小的区域,以获得极佳的空间分辨率,进行快速分析。任何类型的样品都可以通过简单的样品制备甚至不制备直接进行分析

M4 TRONADO高性能微区X射线荧光光谱仪产品概述:

 微区X射线荧光光谱分析技术是对不均匀样品、不规则样品、甚至小件样品和包裹物进行高灵敏度的、非破坏性的元素分析的首选方法。采用多导毛细管聚焦镜将激发光聚焦到非常小的区域,以获得极佳的空间分辨率,进行快速分析。任何类型的样品都可以通过简单的样品制备甚至不制备直接进行分析。
M4 TRONADO高性能微区X射线荧光光谱仪技术参数
样品类型     固体、颗粒、液体、多层膜
样品室尺寸  W×D×H:600×350×260mm
样品台尺寸   W×D:330×170mm
测量气氛  大气/真空,在100秒内准备就绪
样品移动    zui大移动范围 W×D×H:270×240×120mm
移动速度    涡轮增速样品台zui大移动速度可达100mm/s
激发            配多导毛细管聚焦镜的高强度X射线光管
                    选项:可同时使用不同靶材的双光管
X射线光管参数
靶材       Rh,可选靶材:Mo,Ag,Cu,W
电压       50kV,800μA
光斑大小   小于30μm(对于Mo-K)
滤光片   根据用户要求,zui多6块滤光片
探测器   XFlash®硅漂移探测器
              选项:可zui多同时使用3个探测器
探测器参数
有效面积   10mm2,选项:30mm2
能量分辨率    计数率250,000cps时分别优于125eV、135eV

仪器控制    先进的PC机,Windows XP或Vista操作系统
仪器控制功能     光管参数、滤光片、光学显微镜、样品照明和样品定位的全面控制
光谱评估       谱峰识别、人工和自动背景校正、峰面积计算、对于块状样品和多层膜样品基于标样和无标样模式的定量分析
分布分析     “飞行中”测量模式,HyperMap软件功能
结果显示     定量结果、统计计算、元素分布(线扫描、面分布)
电源要求     110-240V(1P),50/60Hz
尺寸(宽×深×高) 815×680×580mm,130kg
质量和安全   DIN EN ISO 9001:2000认证, CE认证
完全辐射防护系统;辐射剂量<1μSv/h
M4 TRONADO高性能微区X射线荧光光谱仪主要特点:
M4 TORNADO采用了全新的技术,为各种用户提供了zui佳的分析性能和非常方便的操控性。
采用多导毛细管聚焦镜,照射光斑zui小,空间分辨率zui高。
涡轮增速X-Y-Z样品台,借助放大倍数可变的摄像系统获得高品质的样品影像,可在“飞行中”进行元素分布分析。

高强度的X射线光管与多导毛细管聚焦镜相结合,确保在非常小的照射区域内获得非常高的激发强度。采用滤光片和可以同时使用的配有不同靶材的双光管,可以根据不同的分析要求,优化激发光谱。
使用XFlash®探测器超高速地获取样品图谱,另外,使用多个探测器可以进一步提高测量速度。
采用无标样分析法精确定量分析块状样品,精确分析多层膜样品。
可抽真空的样品室配有自动门,大尺寸的样品室可以放置各种尺寸的样品。通过两个放大倍数可变的摄像系统观察样品(整体观察和分析区域的细致观察),便捷进样功能和自动对焦功能可以进行快速而精确的定位。通过用户编辑的X-Y-Z样品台运行程序可实现重复测量。

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